100+ câu trắc nghiệm Thiết kế VLSI có đáp án - Phần 5

Làm mỏng wafer

Làm dày wafer

Tạo hình các thành phần mạch trên wafer

Tạo bảo vệ bề mặt wafer

Etsa hóa học (Chemical Etching)

Etsa plasma (Plasma Etching)

Etsa điện hóa (Electrochemical Etching)

Etsa laser (Laser Etching)

Transistor MOSFET

Các lớp bảo vệ wafer

Các tuyến dẫn và kết nối giữa các thành phần

Đèn LED

Chỉ từ vài micromet đến vài milimet

Chỉ từ vài nanomet đến vài micromet

Từ vài nanomet đến vài micromet và có thể thậm chí lớn hơn

Chỉ từ vài picomet đến vài nanomet

Quá trình sơn phủ lớp bảo vệ lên wafer

Quá trình làm mỏng wafer để tạo thành mạch tích hợp

Quá trình tạo hình các khu vực trên wafer để tạo thành các thành phần mạch

Quá trình kiểm tra và đo lường các tính chất của wafer

Tạo hình các thành phần mạch trên wafer

Làm mỏng wafer

Tạo bảo vệ bề mặt wafer

Tạo các lớp bảo vệ wafer

Chất sơn phủ lên wafer

Chất nhạy ánh sáng dùng để chiếu vào wafer

Chất tạo hình bề mặt wafer

Chất làm mỏng wafer

Ánh sáng có bước sóng dài

Ánh sáng có bước sóng ngắn

Ánh sáng có bước sóng trong khoảng cả visible và ultraviolet

Ánh sáng có bước sóng trong khoảng cả ultraviolet và infrared

Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích âm trên wafer

Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích dương trên wafer

Quá trình tạo lỗ giếng không doped trên wafer

Quá trình làm mỏng wafer

Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích âm trên wafer

Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích dương trên wafer

Quá trình tạo lỗ giếng không doped trên wafer

Quá trình làm mỏng wafer

Quá trình làm mỏng wafer

Quá trình tạo các lỗ giếng không doped trên wafer

Quá trình tạo các lỗ giếng doped trên wafer

Quá trình tạo hình các khu vực trên wafer để tạo thành các thành phần mạch

Giảm tiêu thụ điện năng

Tăng hiệu năng mạch

Tăng độ chính xác của mạch

Giảm kích thước mạch

Twin-well sử dụng hai lớp n-well và p-well, trong khi triple-well sử dụng ba lớp n-well và p-well.

Twin-well sử dụng ba lớp n-well và p-well, trong khi triple-well sử dụng hai lớp n-well và p-well.

Twin-well và triple-well là hai thuật ngữ đồng nghĩa và có cùng ý nghĩa.

Twin-well và triple-well là hai phương pháp khác nhau nhưng không liên quan đến VLSI.

Hiệu ứng body

Hiệu ứng kênh dài

Hiệu ứng photoresist

Hiệu ứng diffusion

Một loại bộ nhớ dùng để lưu trữ dữ liệu

Một thành phần bán dẫn dùng để kiểm soát dòng điện trong mạch

Một loại linh kiện được sử dụng trong quá trình diffusion

Một thành phần bán dẫn dùng để lưu trữ dữ liệu tạm thời

Hiệu ứng body

Hiệu ứng kênh dài

Hiệu ứng kim loại (metal gate effect)

Hiệu ứng trễ đầu vào (input delay effect)