25 câu hỏi
Hiệu ứng body thường xảy ra khi nào trong mạch MOSFET?
Khi cổng và nguồn được nối chung
Khi cổng và nối chung với nguồn thông qua một điện trở
Khi cổng và nguồn không nối chung
Hiệu ứng body không xảy ra trong mạch MOSFET
Hiệu ứng body có thể làm thay đổi điện áp ngưỡng của transistor MOSFET như thế nào?
Tăng điện áp ngưỡng
Giảm điện áp ngưỡng
Không ảnh hưởng đến điện áp ngưỡng
Điện áp ngưỡng không tồn tại trong transistor MOSFET
Hiệu ứng body có thể gây ra vấn đề gì trong mạch MOSFET?
Tăng hiệu năng mạch
Giảm hiệu năng mạch
Tăng hiệu suất mạch
Không ảnh hưởng gì đến hiệu năng và hiệu suất mạch
Các biện pháp để giảm hiệu ứng body trong mạch MOSFET bao gồm:
Tăng kích thước transistor
Sử dụng điện trở kết nối cổng và nguồn
Giảm kích thước transistor
Không có biện pháp nào để giảm hiệu ứng body
Wafer là gì trong ngành công nghiệp chế tạo mạch tích hợp?
Một loại mô-đun bán dẫn nhỏ gọn
Một thiết bị lưu trữ dữ liệu
Một loại vật liệu trắng trong chế tạo mạch
Lõi silicon đơn thuần được sử dụng để chế tạo mạch tích hợp
Wafer được làm từ vật liệu gì?
Kim loại
Nhựa tổng hợp
Silicon
Thủy tinh
Wafer có hình dạng như thế nào?
Cầu
Trụ
Đĩa phẳng và mỏng
Hình lục giác
Masking trong quá trình sản xuất VLSI giúp điều gì?
Loại bỏ các lỗi trong mạch
Bảo vệ sự an toàn của người làm việc
Tạo ra các tính năng thêm vào trong mạch
Định rõ vị trí của các thành phần trên wafer
Quá trình etching trong VLSI là gì?
Quá trình sơn phủ lớp bảo vệ lên wafer
Quá trình làm mỏng wafer để tạo thành mạch tích hợp
Quá trình etsa (tạo hình) các khu vực trên wafer để tạo thành các thành phần mạch
Quá trình kiểm tra và đo lường các tính chất của wafer
Quá trình etching trong VLSI được sử dụng để làm gì?
Làm mỏng wafer
Làm dày wafer
Tạo hình các thành phần mạch trên wafer
Tạo bảo vệ bề mặt wafer
Phương pháp etsa nào được sử dụng phổ biến nhất trong quá trình etching trong VLSI?
Etsa hóa học (Chemical Etching)
Etsa plasma (Plasma Etching)
Etsa điện hóa (Electrochemical Etching)
Etsa laser (Laser Etching)
Quá trình etching trong VLSI có thể được sử dụng để tạo ra những thành phần mạch nào sau đây?
Transistor MOSFET
Các lớp bảo vệ wafer
Các tuyến dẫn và kết nối giữa các thành phần
Đèn LED
Quá trình etching trong VLSI có thể dùng để tạo ra các khu vực trên wafer có kích thước như thế nào?
Chỉ từ vài micromet đến vài milimet
Chỉ từ vài nanomet đến vài micromet
Từ vài nanomet đến vài micromet và có thể thậm chí lớn hơn
Chỉ từ vài picomet đến vài nanomet
Quá trình photoresist trong VLSI là gì?
Quá trình sơn phủ lớp bảo vệ lên wafer
Quá trình làm mỏng wafer để tạo thành mạch tích hợp
Quá trình tạo hình các khu vực trên wafer để tạo thành các thành phần mạch
Quá trình kiểm tra và đo lường các tính chất của wafer
Quá trình photoresist được sử dụng để làm gì trong VLSI?
Tạo hình các thành phần mạch trên wafer
Làm mỏng wafer
Tạo bảo vệ bề mặt wafer
Tạo các lớp bảo vệ wafer
Photoresist là gì trong quá trình photoresist trong VLSI?
Chất sơn phủ lên wafer
Chất nhạy ánh sáng dùng để chiếu vào wafer
Chất tạo hình bề mặt wafer
Chất làm mỏng wafer
Quá trình photoresist trong VLSI sử dụng ánh sáng có bước sóng như thế nào?
Ánh sáng có bước sóng dài
Ánh sáng có bước sóng ngắn
Ánh sáng có bước sóng trong khoảng cả visible và ultraviolet
Ánh sáng có bước sóng trong khoảng cả ultraviolet và infrared
Quá trình n-well là gì trong VLSI?
Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích âm trên wafer
Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích dương trên wafer
Quá trình tạo lỗ giếng không doped trên wafer
Quá trình làm mỏng wafer
Quá trình p-well là gì trong VLSI?
Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích âm trên wafer
Quá trình tạo các lỗ giếng doped với điện tích dương trên wafer
Quá trình tạo lỗ giếng không doped trên wafer
Quá trình làm mỏng wafer
Quá trình diffusion là gì trong VLSI?
Quá trình làm mỏng wafer
Quá trình tạo các lỗ giếng không doped trên wafer
Quá trình tạo các lỗ giếng doped trên wafer
Quá trình tạo hình các khu vực trên wafer để tạo thành các thành phần mạch
Triple-well và twin-well giúp cải thiện gì trong mạch tích hợp?
Giảm tiêu thụ điện năng
Tăng hiệu năng mạch
Tăng độ chính xác của mạch
Giảm kích thước mạch
Triple-well và twin-well có sự khác biệt như thế nào?
Twin-well sử dụng hai lớp n-well và p-well, trong khi triple-well sử dụng ba lớp n-well và p-well.
Twin-well sử dụng ba lớp n-well và p-well, trong khi triple-well sử dụng hai lớp n-well và p-well.
Twin-well và triple-well là hai thuật ngữ đồng nghĩa và có cùng ý nghĩa.
Twin-well và triple-well là hai phương pháp khác nhau nhưng không liên quan đến VLSI.
Triple-well và twin-well giúp giải quyết vấn đề gì trong mạch tích hợp?
Hiệu ứng body
Hiệu ứng kênh dài
Hiệu ứng photoresist
Hiệu ứng diffusion
Tụ điện là gì trong thiết kế VLSI?
Một loại bộ nhớ dùng để lưu trữ dữ liệu
Một thành phần bán dẫn dùng để kiểm soát dòng điện trong mạch
Một loại linh kiện được sử dụng trong quá trình diffusion
Một thành phần bán dẫn dùng để lưu trữ dữ liệu tạm thời
SOI giúp giải quyết vấn đề gì trong VLSI?
Hiệu ứng body
Hiệu ứng kênh dài
Hiệu ứng kim loại (metal gate effect)
Hiệu ứng trễ đầu vào (input delay effect)