Quá trình etching trong VLSI có thể dùng để tạo ra các khu vực trên wafer có kích thước như thế nào?13/25Quá trình etching trong VLSI có thể dùng để tạo ra các khu vực trên wafer có kích thước như thế nào?Chỉ từ vài micromet đến vài milimetChỉ từ vài nanomet đến vài micrometTừ vài nanomet đến vài micromet và có thể thậm chí lớn hơnChỉ từ vài picomet đến vài nanometGiải thíchChọn đáp án C