Ưu điểm chính của kỹ thuật E-Beam là gì so với phương pháp photolithography truyền thống?

Hiệu suất sản xuất cao

Chi phí thấp hơn

Độ phân giải cao và khả năng tạo chi tiết nhỏ

Sử dụng ánh sáng có bước sóng ngắn hơn (thường là UV)